登记时多交的那份独创性声明，决定你以后能告谁
《集成电路布图设计保护条例》842 号令 2026 年 10 月 15 日施行：保护期与登记条件一字未改，改的是登记时你必须说清「哪里独创」

The Short Version

先说结论：骨架没动，登记义务重了

把这次修订读成「集成电路保护力度加大了」，方向不算错，但用它来安排明年的登记计划，会漏掉真正花钱的那部分。力度体现在赔偿条款上，成本体现在材料准备上，两者不在同一章。

先说没变的。保护期还是 10 年，自登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起算，以较前日期为准；无论是否登记、是否商用，自创作完成之日起15 年后不再受保护（第十七条）。专有权仍然经登记产生，未登记不受保护（第十二条）。首次商业利用之日起 2 年内不申请，不再予以登记（第二十六条）。这三条在 2001 年的条例里就是这样，新版一字未改。

再说变了的。第二十二条新增第三项「布图设计的独创性声明」，把它与申请表、复制件或图样并列为申请文件；第二十三条要求提交的复制件或者图样能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分；第二十四条把这份声明的内容写死：设计区域、设计要点、相应功能三项。

这三条放在一起看，性质就变了。它不再是「多填一张表」，而是把过去由审查员在侵权诉讼里替你回答的问题——「这个布图设计哪一部分是独创的」——提前到申请日，要求你自己写下来。写下来的东西还有第二个用途：第三十四条规定，受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。

于是这份声明变成一个两头受力的小文件：写得太宽，撑不住；写得太窄，等于自己把保护范围收掉。而第三十条又把撤销程序写明白——任何人发现登记不符合条例规定都可以请求撤销，第三十一条接着规定，登记被撤销的，专有权视为自始即不存在。收得太窄只是少告几个人，撑不住则可能连登记都没了。

The Rule

规则原貌：54 条里，与办理直接相关的是这十条

这份条例的体量不大，6 章 54 条。真正与一次登记、一次维权直接相关的，集中在总则、登记、权利行使与法律责任四章里。下面按办理顺序把它们串一遍，条号与表述均按 842 号令原文。

保护对象：从集成电路扩到集成光子与量子

第三条第一款沿用原有定义：集成电路是以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；布图设计则是这些元件的三维配置。第二款是新的：对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。

这一款的写法值得注意。它没有另立一套规则，而是用「可以依照本条例的规定予以保护」把新对象接进原有框架。对做硅光、光模块、量子器件设计的企业，这意味着过去只能往专利、技术秘密里塞的结构，现在多了一条登记路径——登记不审查创造性高度，只做初步审查，速度和成本都与专利不在一个量级。

登记：材料多一项，门槛多一道

第二十二条列出四类申请材料：申请表、复制件或者图样、独创性声明、以及国务院知识产权行政部门规定的其他材料；已经投入商业利用的，还要提交含有该布图设计的集成电路样品。第二十三条接着要求，提交的复制件或者图样应当包含必要信息，能够清楚地显示具有独创性的部分。

第二十四条把声明的内容具体化：应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能；如果布图设计是作为整体具有独创性的，应当在声明中具体说明。这三句话其实就是撰写要求——「在哪一块」「靠什么区别」「实现什么功能」，缺一项，声明就不完整。

审查与撤销：两道事后校正

第二十七条规定初步审查：认为明显不符合第三条第一款第一项、第二项，或者不符合第七条、第二十条、第二十三条、第二十四条的，通知申请人在指定期限内陈述意见或者补正；期满未答复的，申请视为撤回；补正后仍不符合的，予以驳回。对驳回不服的，可以自收到通知之日起 3 个月内请求复审，对复审决定不服的可以起诉（第二十九条）。

第三十条给了撤销两条路径：国务院知识产权行政部门自己发现登记不符合规定的，应当撤销；任何人发现登记不符合规定的，可以请求撤销。撤销的事由被列举得很具体，包括不符合第三条第一款第一项、第二项，或者第四条、第六条、第七条、第十七条、第二十条、第二十三条、第二十四条、第二十六条的规定。第三十一条接着把后果写死：登记被撤销的，专有权视为自始即不存在。

把这两条与第二十三条、第二十四条连起来读，会发现一个闭环：声明写得不清楚，是第二十四条的问题；图样显示不出独创性部分，是第二十三条的问题；两者都在第三十条的撤销事由清单里。也就是说，材料瑕疵不再只是补正问题，它可能导致权利存续问题。

保护范围与赔偿：一个锚点，两处加码

第三十四条给保护范围定了锚：以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释独创性。第四十六条给赔偿加了两种算法：损失或者获利难以确定的，参照该布图设计许可使用费的倍数合理确定；对故意侵犯专有权、情节严重的，可以在按上述方法确定数额的1 倍以上 5 倍以下确定赔偿数额。赔偿数额还包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支。

另外两处与办理有关：第三十五条要求转让订立书面合同并登记，转让自登记之日起生效；许可他人使用的，自合同生效之日起 3 个月内备案；以专有权出质的，由出质人和质权人共同办理出质登记并公告。第三十三条新增权利恢复：因不可抗拒的事由延误期限的，自障碍消除之日起 2 个月内且自期限届满之日起 2 年内可以请求恢复；因其他正当理由延误的，自收到通知之日起 2 个月内可以请求恢复。

What Changed

逐项对照：十五个制度点，五处会改变胜负

把两版放在一张表里，能看出这次修订的重心不在「加多少年」，而在「把什么写进程序」。下表的「性质」一栏只区分三种：沿用、细化、新增。

十五行里，真正会在个案里改变结果的只有五处：申请材料、图样要求、声明内容、撤销、保护范围。前四处决定「登记能不能站住」，第五处决定「站住之后能拦多宽」。赔偿那两处固然醒目，但它只在赢了之后才用得上；而这五处，在递材料那天就已经定了。

还有一行容易被跳过：共有人。第三十六条规定，共有人对权利行使有约定的从约定；没有约定的，共有人可以单独使用，或者以普通许可方式许可他人使用，许可费在共有人之间分配；除此以外的行使，应当取得全体共有人同意。过去合作开发布图设计、事后对簿公堂的纠纷，多半卡在「一个共有人能不能单独许可」这个问题上，现在有了默认答案：能，但只能是普通许可，且钱要分。

Why

为什么这么改：轻审查与重声明的组合

司法部与国家知识产权局在答记者问里把修订思路讲了三层：贯彻加强知识产权法治保障的决策部署；聚焦当前突出问题，把实践中行之有效的做法上升为行政法规；与有关法律法规、国际条约做好衔接。这三层是官方的说法，落到条文上，还要看它为什么选这条路。

布图设计的登记，与专利的授权是两套完全不同的审查逻辑。发明专利要经过实质审查，检索现有技术、判断创造性，周期以年计；国家知识产权局对布图设计登记申请只作初步审查（第二十七条），不检索、不比对本领域的常规设计，看的是材料齐不齐、表面上看有没有明显不符合规定。这个差别不是疏漏，是设计。

之所以选这条路，原因在产业节奏上。集成电路的迭代周期常常只有一到两年，一件布图设计从流片到量产再到被替代，可能比实质审查还快。如果按专利那套走，等到授权，产品已经换代。所以立法选择的是「低门槛、快登记」，把审查成本压到最低。

低门槛的代价是登记质量参差。既然登记时不比对本领域的常规设计，那么「这个登记到底够不够独创」这个问题，就只能留到事后解决。旧条例下，这个「事后」主要发生在侵权诉讼里，由被告抗辩、法院审查。842 号令要做的，是把事后校正的成本降下来——不是靠加大审查，而是靠两件事：让申请人自己先把独创性说清楚，再给一个专门的撤销通道。

这就是「轻审查 ＋ 重声明 ＋ 可撤销」的组合。声明的作用是把争议焦点前移：申请时你说清哪里独创，日后争起来，法院先看你当时怎么写的。撤销的作用是给这个声明一个兜底：写得不实，任何人可以请求撤销，撤销之后权利视为自始不存在。

从这个角度看，第四十六条的惩罚性赔偿并不是孤立的一条。它对故意侵权加大成本，与前面那套「登记要写清、写了要担责」的逻辑是同一个方向：把举证与说明的负担，更多地压给权利人自己。这也符合另一个背景——集成电路是典型的关键核心技术领域，登记数量在涨，而权利质量的把关不可能全部交给审查环节。

Who & How

影响谁：四类主体，五条动作

这次修订对不同的主体，影响不在一个位置上。

四类主体各自受影响的地方

• —自研布图设计的芯片设计企业：受影响最直接的是登记材料的写法，尤其是新申请与正在准备申请的那批。已登记的老案子不会因为新条例施行而失效，但一旦进入维权或者被请求撤销，第三十四条的「声明可用于解释」就会起作用。
• —做集成光子、量子器件的企业：第三条第（二）款把这类布图设计接进了保护框架，过去只能用专利或者技术秘密保护的结构，现在多了一条登记路径。
• —被诉侵权的一方：第三十七条的四类不侵权情形与第四十七条的善意取得，是两条现成的抗辩。第四十七条还留了一个缓冲——得到明确通知后，可以把现有存货或者此前的订货继续投入商业利用，但要支付合理使用费。
• —代理机构：第五条明确受托办理时的保密责任，第四十八条把泄露未公开内容的处罚直接挂到《专利代理条例》第二十五条上。这不是宣示性条款，是有处罚后果的。

五条可以现在就做的动作

1. 01

   把已登记与在审的清单拉出来，逐件看声明

   重点看两件事：有没有独创性声明；声明里有没有写清设计区域、设计要点、相应功能。写得含糊的，先在内部标一个风险等级——它决定这件权利在维权时的稳固程度。

2. 02

   新申请按「区域—要点—功能」三段写声明

   这三项是第二十四条的法定内容，缺一项就不完整。写法上，区域要能对应到图样上的具体部分，要点要说明与常规设计的区别，功能要写这一部分在电路里起什么作用。三段之间要能互相对上。

3. 03

   在图样上把独创性部分标出来

   第二十三条要求图样能清楚显示独创性部分，第二十四条要求声明指明设计区域。两件事其实是一件事：图上标不出，声明就指不明。这一步不做，前面两步都是空的。

4. 04

   对外许可、转让、出质，按第三十五条补齐手续

   转让不登记不生效，这一条最容易踩；许可要在合同生效之日起 3 个月内备案；出质要由出质人和质权人共同办理登记并公告。三件事的后果不同，但都属「不做就少一层保护」的类型。

5. 05

   被诉时，先看对方的登记能不能撤销

   第三十条第二款给了任何人一条请求撤销的通道，事由列举得很具体，其中就包括图样与声明不符合第二十三条、第二十四条。这条路径过去在实务里用得不多，新条例之后值得作为常规抗辩动作检查一遍。

Boundary

边界与不确定：五处还没有答案

新条例刚施行，有些问题现在问也没有确定答案。把它们列出来，是为了避免把「条文这么写」直接读成「案子会这么判」。

• —声明写多宽算合适，还没有判例。第三十四条说声明可以用于解释独创性，但没有说「解释」的边界在哪。写得太宽，可能在撤销程序里被认定不实；写得太窄，可能在侵权比对时被对方拿来限缩保护范围。这个平衡点在第一批案例出来之前，只能按「与图样严格对应」这个保守口径处理。
• —「集成光子、量子等」的「等」字还没划定范围。第三条第（二）款用的是开放式表述，哪些属于「等功能」的集成电路，需要后续的审查口径来明确。在明确之前，建议按最接近的类别准备材料，不要假设一定被纳入。
• —权利恢复不适用于保护期与两年登记时限。第三十三条最后一款明确，第一款与第二款的规定不适用第十七条、第二十六条规定的期限。也就是说，保护期届满、超过两年未申请，这两件事没有恢复通道。
• —惩罚性赔偿的「故意」与「情节严重」如何举证，仍是个案问题。第四十六条给了 1 倍到 5 倍的区间，但没有给判断标准。从专利侵权的实践看，这部分通常靠侵权通知后的继续实施、规模化经营、规避设计等事实来支撑，布图设计案件大概率会沿用同一套思路。
• —配套规则尚未出全。条例是行政法规，登记的具体材料格式、声明表格、撤销请求的办理流程，通常由部门规章或者审查指南细化。在配套文件出来之前，按条例条文准备材料是安全的，但不要按旧表格的惯性直接提交。

还有一条容易被忽略的边界：第七条。条例对布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念。这意味着登记图样之外的东西——比如某一种电路架构的思路、某套算法——不在保护范围内。写声明时如果把这些写进去，不仅无用，还可能因为与图样对不上而成为撤销的理由。

最后一处不确定来自时间。842 号令 10 月 15 日施行，此前的登记适用旧条例，此后的申请适用新条例。跨在中间的那批——已经提交、尚未审查完毕的——按什么标准补材料，实践里通常会有过渡安排。这类过渡问题，以国家知识产权局后续发布的通知为准，本文不作推测。

Sources

依据来源

• —《集成电路布图设计保护条例》（2001 年 4 月 2 日中华人民共和国国务院令第 300 号公布，2026 年 7 月 23 日中华人民共和国国务院令第 842 号修订，自 2026 年 10 月 15 日起施行），共 6 章 54 条。本文所引条号均按 842 号令文本：第二条、第三条、第五条、第六条、第七条、第九条、第十二条、第十七条、第二十条、第二十二条至第二十四条、第二十六条、第二十七条、第二十九条至第三十一条、第三十三条至第三十八条、第四十四条、第四十六条至第四十八条、第五十条。
• —司法部、国家知识产权局负责人就《集成电路布图设计保护条例》修订答记者问（2026 年 8 月 3 日发布），含修订背景、总体思路与四方面主要内容的官方说明。
• —国务院第 842 号令公布稿所附修订说明要点：条例共 6 章 54 条，修订内容包括明确总体要求、完善申请审查程序、加强专有权保护、促进布图设计运用四方面。
• —《中华人民共和国专利法实施细则》（2023 年 12 月 11 日国务院令第 769 号修订，自 2024 年 1 月 20 日起施行）第十五条（转让登记、许可备案、出质登记），作为专利与布图设计在权利变动手续上的对照。
• —《最高人民法院、最高人民检察院关于办理侵犯知识产权刑事案件具体应用法律若干问题的解释（三）》第四条、第五条（损失数额的认定方式）。
• —国家知识产权局公开的专利与集成电路布图设计登记统计口径，以及专利密集型产业、战略性新兴产业相关的公开发布数据，用于说明「轻审查」这一制度选择的产业背景。